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Specifiocations
- CWL(center of wavelength): H-Alpha 656.3nm/SII 671.6nm/OIII 500.7nm
- Fwhm: H-Alpha7nm/SII 6.5nm/OIII6.5nm
- Tpeak: <85%
- Optical Density: OD 3
- Surface Quality: 60/40
- Transmitted Wavefront RMS: λ/4
- Parallelism(arcsec): 30s
Manufacturing Technique
- Fine-optically polishing for double-sides—— Ensure accurate λ/4 wavefront /*C*and*C*/ <30 seconds parallalism over the both surfaces
- Ultrasonic wave cleaning substrate with purified water—— Cleanup by 13 purified water tank to remove inpurities /*C*and*C*/ dust effectively
- Iro source assisted coating—— For durability /*C*and*C*/ resistance to scratching, as well as stability on CWL (central wavelength) no deviation affected by temperature change.
- Constantly stringent quality testing processes—— Each filter was tested by spectrophotometer /*C*and*C*/ laser interferometer testing spectrum /*C*and*C*/ wavefront to ensure market filter is qualified product
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